반도체 박막공정에서의 진공과 펌프
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| 자료설명 | |
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수준 고3 반도체 박막공정에서의 진공과 펌프 | |
| 목차(차례) | |
1. 진공이란2. 박막공정이란3. 박막공정에서 진공이 중용한 이유4. 이상기체상태방정식5. MFP6. 진공펌프 | |
| 본문/내용 | |
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진공이란
어떤 공간내 어느 지점을 관찰하여도 입자가 전혀 존재하지 않는 상태를 뜻한다. 하지만 현실적으로 이상적인 진공 상태를 만들기란 거의 불가능에 가깝다. 아주 가벼운 수소나 헬륨 같은 기체들은 엄청난 성능의 펌프로 뽑아내도 잔존하기 때문이다. 그렇기 때문에, 과학적으로 사용되는 진공의 의미는 대기압 보다 낮은 압력 상태를 뜻한다. 박막공정이란 박막이란 기계 가공으로는 실현불가능한 두께인 1마이크로미터 이하의 앏은 막을 의미한다. 이 박막을 웨이퍼 위에 증착시켜 전기적인 특성을 갖게 하는 과정을 박막공정이라 한다. |
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